この活動では，ハード（現実空間）とソフト（仮想空間：データサイエンス）の両者を扱うことのできる電気電子エンジニア育成を目的としています。大気圧プラズマは、基材表面の洗浄や有機物除去、親水化などの表面処理が可能であり、ディスプレイ製造工程や半導体製造工程などの幅広い分野で産業利用されています。本年は、「ガラス基板の親水化」をテーマとして研究に取り組み、大気圧プラズマを用いた表面処理実験に取り組みました(写真①)。写真②は、生成された大気圧プラズマの様子です。また、写真③は、ガラス基板上の水滴の様子です。大気圧プラズマ処理によって、基板が水に濡れる性質すなわち親水化されたことがわかります。今後は、親水化に最適なプラズマ照射条件を、機械学習等を用いて導きだすプログラムを構築する予定です。

大気圧プラズマは、基材表面の洗浄や有機物除去、親水化などの表面処理が可能であり、ディスプレイ製造工程や半導体製造工程などの幅広い分野で産業利用されています。本年は「ガラス基板の親水化」をテーマとして研究に取り組んでいます。今回は、親水化効率が高くなるプラズマの処理条件の検討を行いました(写真①)。写真②は、ガラス基板上の水滴の様子です。大気圧プラズマ処理時間が60秒の時は水滴が山のような形状をしていることが観測されますが、プラズマ処理時間を90秒に伸ばすと親水化が進み基板が水に濡れたような形状になることが確認できました。今後は、詳細なデータ解析となぜ親水化が進んだかといった考察を進めていきます。

今回は、研究や開発などの現場で実際に使われている大気圧プラズマジェット（写真①）を用いて、ガラス基板の表面処理実験を行いました。プラズマジェットの生成条件（電圧や電流等）を制御し、ガラス基板の表面処理効率が高くなる条件を調査しています(写真②)。３月に行われる一般社団法人電気学会U-21学生研究発表会での発表を目指して、取り組みを進めています。